Filtration des fluides utilisés pour une extrême propreté
L’industrie de la microélectronique et des semi-conducteurs se distingue par la diversité considérable de ses procédés et de ses produits. Elle est probablement l'industrie ayant la croissance la plus forte, tirée principalement par l'expansion des marchés de l'informatique et des télécommunications, ainsi que les marchés de l'électronique automobile et militaire.
Les méthodes avancées de production en microélectronique exigent une extrême propreté de tous les fluides utilisés (l’eau UltraPure, les produits chimiques, les CMP, les gaz, l’air) et cette exigence augmente sans cesse. En raison des miniaturisations constantes (échelle nanométrique), le contrôle des contaminations est l'une des préoccupations les plus critiques dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ces contaminations ont des origines diverses. Par exemple, les contaminants organiques (TOC) peuvent endommager les substrats, ce qui peut avoir une répercussion négative sur les rendements de production. La contamination moléculaire aéroportée (AMC) est désormais un enjeu majeur pour tous les sites de production de microélectronique de pointe. Dans le même esprit, la présence d’insolubles submicroniques dans les produits chimiques ou les slurries (CMP) peuvent notamment créer des « scratch » sur les wafers.
EAU ULTRAPURE (UPW pour Ultra Pure Water)
L’industrie Microélectronique nécessite de très grandes quantités d’eau Ultrapure (UPW) dans le cadre de ses procédés de production. Le nettoyage, le rinçage et la gravure de wafers et de substrats exigent des milliers de mètres cubes d’UPW par jour dans toute usine classique.
Pour répondre aux niveaux de qualité de l’eau Ultrapure (UPW) dans le secteur de la Microélectronique, le traitement de l’eau brute suit une procédure comportant plusieurs étapes, notamment celle de filtration.
Les performances des filtres que nous fournissons répondent évidemment aux exigences de cette production (retour de résistivité 18mΩ.cm immédiat, no IPA contamination, etc…).
SALLE BLANCHE
De nombreuses études ont démontré que la contamination moléculaire aéroportée (AMC) produisait une grande variété d’effets et influait significativement sur la productivité.
La corrosion des disques durs ou des wafers par de l’acide, les dépôts organiques condensables sur des surfaces sensibles ou encore l’exposition à de faibles niveaux d’ammoniac sont des exemples qui vont affecter a minima une étape du process de production. Quelques particules ou molécules de gaz (ozone par exemple) peuvent occasionner des pertes de rendement sur les productions.
Nous fournissons donc des filtres industriels HEPA/ULPA (jusqu’à U15) et filtres moléculaires (notamment filtres à charbon actif pour l’adsorption pour tous les étages des centrales de traitement d’air.
PRODUITS CHIMIQUES
Les produits chimiques utilisés dans les traitements (gravure, texturation, CMP, couches minces, etc…) doivent être de la plus haute pureté. La moindre impureté peut entraîner une perte de productivité, de rendement et donc de revenus.
Les opérateurs doivent pouvoir faire confiance aux performances de leur chimie pour maximiser les rendements tout en maintenant des niveaux de qualité optimum. La compétence technique, les performances de mesure et la qualité des équipements en filtration que nous proposons garantissent que les systèmes de fabrication sont parfaitement contrôlés.
Que ce soit des membranes PTFE qualifiées, des fibres creuses et des hardware en PFA haute pureté, nous étudions en fonction des compatibilités chimique et thermique les filtres industriels les plus adaptés à votre process filtration.